| 专利名称 | 一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法 | 申请号 | CN201310169126.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103308442A | 公开（授权）日 | 2013.09.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 胡章贵;李小矛;岳银超 | 主分类号 | G01N17/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N17/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法 至一种用于非线性光学晶体的探伤装置及探伤方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及非线性光学晶体探伤技术领域，特别涉及一种用于非线性光学晶体的探伤装置和其使用方法，包括激光发生器、衰减器、能量计、光闸、会聚透镜和显微镜，激光发生器用于产生射向非线性光学晶体的激光；会聚透镜位于该激光的光路上，用于将该激光会聚到非线性光学晶体上；光闸位于从激光发生器到会聚透镜之间的激光光路上，用于控制激光光路的通断；能量计用于测量射向非线性光学晶体的激光的能量；衰减器用于调整射向非线性光学晶体的激光的能量；显微镜用于观察非线性光学晶体在激光照射下的损伤情况。利用本探伤装置可方便的获得辐照激光强度和待测非线性光学晶体在该激光强度照射下的损伤情况，便于进行连续多组探伤实验。 |
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