| 专利名称 | 一种低温状态下元件平面度的测量装置及方法 | 申请号 | CN201310251775.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103308008A | 公开（授权）日 | 2013.09.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 何凯;陈星;华桦;李杨;王建新;林春;张勤耀 | 主分类号 | G01B11/30(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/30(2006.01)I | 专利有效期 | 一种低温状态下元件平面度的测量装置及方法 至一种低温状态下元件平面度的测量装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种低温状态下元件平面度的测量装置及测量方法，测量装置包括激光器、汇聚光学系统、成像光学系统、光电探测器、高精度三维位移平台、专用杜瓦、杜瓦支架、光学避震平台及数据处理装置；被测元件安放于专用杜瓦中；激光器发出的光束通过汇聚光学系统垂直入射于被测元件表面，成像光学系统和光电探测器对激光光斑成像，利用激光三角法测量被测元件表面测量点的微位移；数据处理系统利用质心算法计算激光光斑的位置，控制高精度三维位移平台实现二维扫描测量并计算被测元件表面平面度。本发明的优点在于：测量装置利用激光三角法位移测量原理实现非接触测量，原理简单易于实现，且工作距离可调，使得该装置具有很强的适用性。 |
1、源头对接，价格透明
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