| 专利名称 | 以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶 | 申请号 | CN201210070713.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103304521A | 公开（授权）日 | 2013.09.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 杨国强;陈力;许箭;王双青;李沙瑜 | 主分类号 | C07D307/42(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D307/42(2006.01)I;C07D207/333(2006.01)I;C07D333/16(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I | 专利有效期 | 以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶 至以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了通式(I)或(II)的以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃，以及以上述分子玻璃作为基体成分的光刻胶组合物，其包括：选自通式(I)或(II)中的一种或多种的基体成分、光致产酸剂、有机碱和有机溶剂。本发明的光刻胶组合物为化学放大的正性光刻胶，适合在极紫外线(13.5nm)、电子束下曝光，在碱性显影液中显影。由本发明的光刻胶组合物制备的薄膜具有良好的分辨率、光敏性、粘附性，且易于保存。 |
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