带有EBG的屏蔽结构、3D封装结构及其制备方法

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专利名称 带有EBG的屏蔽结构、3D封装结构及其制备方法 申请号 CN201210043664.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103296009A 公开(授权)日 2013.09.11 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 李君;万里兮;郭学平 主分类号 H01L23/552(2006.01)I IPC主分类号 H01L23/552(2006.01)I 专利有效期 带有EBG的屏蔽结构、3D封装结构及其制备方法 至带有EBG的屏蔽结构、3D封装结构及其制备方法 法律状态 专利申请权、专利权的转移 说明书摘要 本发明提供一种带有EBG的屏蔽结构、3D封装结构及其制备方法,所述带有EBG的屏蔽结构包括绝缘层及至少两金属平面;其中,至少一金属平面蚀刻有周期性EBG结构;所述金属平面之间设置有绝缘层。所述制备带有EBG屏蔽结构的方法包括制备至少一层金属平面;制备中间绝缘层;制备至少一层带有周期性EBG结构的金属平面。所述一种3D封装结构,包括带有EBG的屏蔽结构、裸芯片、互联基板;所述裸芯片键合在所述互联基板上,所述裸芯片与所述屏蔽结构连接。还提供一种3D封装的制备方法。本发明能有效降低垂直3D互联封装中芯片间的近场耦合问题。

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