| 专利名称 | 一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法 | 申请号 | CN201310234429.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103279009A | 公开（授权）日 | 2013.09.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 李志炜;张满;杨勇;胡松;邱传凯 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法 至一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法，所述复合模板为三层结构，包括柔性支撑层，中间层以及刚性结构层。所述柔性支撑层为低弹性模量高分子衬底；所述中间层为多官能度有机巯基单体与烯烃单体混合物紫外光固化交联物；所述刚性结构层为多官能度（含硅）巯基单体与（含硅）烯烃单体混合物紫外光固化交联物。所述刚性结构层表面具有微纳压印结构。本发明的柔性紫外光压印复合模板在普通实验室环境下光固化制备，无需真空或氮气保护；施行紫外光固化压印时无需机械协助，既具有柔性模板压印自适应衬底形状的优点，也具有刚性模板可复制高分辨率纳米结构的优点。 |
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