| 专利名称 | 一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法 | 申请号 | CN201310188878.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103272482A | 公开（授权）日 | 2013.09.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院过程工程研究所 | 发明（设计）人 | 沈飞;万印华;康英珂;闫会;吴欢欢;刘丽霞 | 主分类号 | B01D67/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B01D67/00(2006.01)I;B01D69/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法 至一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种制备多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法，包括下述步骤，将常规超滤膜或微滤膜固定于装有电极板的室温等离子体腔室中，在一定真空度条件下将气体引入腔室，室温下采用间歇辉光放电方式处理基膜表面，获得最终亲水性或疏水性多孔分离膜产品。与现有连续式和脉冲式室温等离子体改性方法相比，本发明提供的改性方法过程简单、可控性强且无需特殊设备，可显著增强多孔分离膜表面的亲水性或疏水性；所制亲水性多孔分离膜可广泛应用于超滤、微滤、透析等过程，所制疏水性多孔分离膜可广泛应用于膜蒸馏、膜吸收、膜萃取、蒸汽渗透、油性料液澄清等过程，所制多孔分离膜也可以作为基膜用于复合膜的制备。 |
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