| 专利名称 | 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法 | 申请号 | CN201310210094.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103265174A | 公开（授权）日 | 2013.08.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 侯超奇;彭波;陆敏;王鹏飞;高飞;李玮楠 | 主分类号 | C03C6/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C03C6/06(2006.01)I;C03B19/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法 至一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，包括以下步骤：1)准备原材料以及摩尔配比；2)将混合均匀的粉料加入坩埚中并熔融；3)玻璃液降温后，将其注入模具中成型；4)将玻璃进行退火；即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。本发明解决了光栅、分光膜、分光棱镜在强激光下分光的损伤问题，提高激光器的负载能力，在近紫外波段高透，具很好的成玻性能，同时材料还具有高的激光损伤阈值，可作为基频光吸收材料用于强激光领域。 |
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