| 专利名称 | 一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法 | 申请号 | CN201310210092.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103265173A | 公开（授权）日 | 2013.08.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 彭波;侯超奇;陆敏;王鹏飞;高飞;李玮楠 | 主分类号 | C03C6/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C03C6/06(2006.01)I;C03B19/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法 至一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提出了一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法。该方法采用的原料组分为AlF3、BaF2、MgF2、SiO2、Y2O3、CoO，所占摩尔百分数分别为25～40%、15～30%、10～25%、14～25.5%、2～4%、2～3.5%；称取原料混合均匀，加入钳锅，熔制温度控制在1050--1150℃左右，并持续搅拌；待熔融得到澄清玻璃液后，降温至900-950℃，将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；快速放入马弗炉中，以10℃/小时进行退火，直到温度降至50℃，关闭马弗炉，待自然降至室温，取出最终成品。该方法制备得到的材料损伤阈值高，可选择性地滤掉二倍频光，在紫外波段高透。 |
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