| 专利名称 | 一种用于EUV真空环境中的电子学装置 | 申请号 | CN201310172932.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103268058A | 公开（授权）日 | 2013.08.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 宗明成;孙裕文;徐天伟;黄有为 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于EUV真空环境中的电子学装置 至一种用于EUV真空环境中的电子学装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。 |
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