| 专利名称 | 一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机 | 申请号 | CN201320018016.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203149265U | 公开（授权）日 | 2013.08.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王向贤;张斗国;朱良富;陈漪恺;胡继刚;王沛;明海 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机 至一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机，包括：激光光源，光电快门，透镜，半波片，起偏器，分束器，平面反射镜，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜，光波导参数测量仪。激光光源发出的光扩束后，经半波片，起偏器后，成为所需的偏振光，经分束镜后成为强度相等的两束，被平面反射镜反射后，以相同的导模激发角辐照到金属薄膜上，并激发多层结构中的导模，两束导模的干涉导致偶氮苯聚合物的质量迁移，从而刻写出亚波长表面起伏光栅。本实用新型基于导模干涉场，偶氮苯聚合物薄膜，实现了大面积亚波长表面起伏光栅的刻写，光刻时间短，工艺简单，无需显影、定影，且刻写的光栅可擦除和重构。 |
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