| 专利名称 | 一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法 | 申请号 | CN201110416856.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN102522453A | 公开(授权)日 | 2012.06.27 | 申请(专利权)人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明(设计)人 | 万青;竺立强;张洪亮;吴国栋 | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法 至一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种场效应晶体硅太阳能电池的制作方法。首先,在清洗制绒后的p型晶体硅片背表面沉积含磷的二氧化硅薄膜,或者,在清洗制绒后的n型晶体硅片背表面沉积含硼的二氧化硅薄膜;然后,制备前、背收集电极,将背部收集电极引出后,在电池的背表面制备二氧化硅薄膜,并在二氧化硅薄膜表面制备场效应电极;最后,在p型晶体硅电池的场效应电极与前栅电极间加载正偏压,或者,在n型晶体硅电池的场效应电极与前栅电极间加载负偏压,完成电池制作。与现有的晶体硅太阳能电池制作方法相比,本发明的方法简单易行,极大地简化了现有的制作工艺,降低了制作成本,具有广阔的应用前景。 |
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