| 专利名称 | 一种渐变折射率减反射膜的制备方法 | 申请号 | CN201110400242.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102517620A | 公开（授权）日 | 2012.06.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 陈俊武;王彪;杨毅;许高杰;崔平 | 主分类号 | C25D11/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D11/04(2006.01)I;C25D11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 一种渐变折射率减反射膜的制备方法 至一种渐变折射率减反射膜的制备方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明设计一种渐变折射率减反射膜的制备方法，其特征在于包括在光学基片上镀铝膜，根据渐变折射率减反射膜的应用场合要求，设定拟制备的渐变折射率减反膜的层数、每层折射率和厚度；然后根据确定每层所需的阳极氧化深度、每层所需的阳极氧化时间、各层多孔氧化铝孔隙率值和定每层多孔氧化铝在阳极氧化后进行化学刻蚀的时间，根据上述参数反复进行阳极氧化和化学刻蚀，最后氧化退火；本发明在制备过程中可以通过精确控制阳极氧化和化学刻蚀的时间来控制不同膜层的厚度和折射率，可得到任意层数的折射率连续变化的减反射薄膜，因此，在可见和红外波段有很好的宽谱减反射效果。 |
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