| 专利名称 | 一种间隙自适应抛光磨头 | 申请号 | CN201110452719.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102513927A | 公开（授权）日 | 2012.06.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王君林;王绍治 | 主分类号 | B24B41/04(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B41/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种间隙自适应抛光磨头 至一种间隙自适应抛光磨头 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种间隙自适应抛光磨头，属于光学冷加工领域中涉及的一种抛光磨头。解决了现有磨头抛光时抛光液不均匀且磨头与工件间间隙过大的问题。本发明的间隙自适应抛光磨头包括连接件、密封圈、柔性螺旋管、导向柱、弹簧、挡圈、磨头座与磨头体。本发明可与机床连接，抛光液通过机床主轴内孔流入本发明磨头并经过柔性螺旋管持续提供给磨头体。抛光时，先将磨头体与工件表面压紧，使弹簧有一定的压缩量，当工件表面有起伏或安装定位有误差时，磨头体会沿导向柱上下移动以自动补偿间隙，从而可保证抛光质量。 |
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