| 专利名称 | 应用于光栅刻划机的工作台 | 申请号 | CN201310180494.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103247348A | 公开（授权）日 | 2013.08.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 唐玉国;杨超;于海利;李晓天;齐向东;巴音贺希格 | 主分类号 | G12B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G12B5/00(2006.01)I | 专利有效期 | 应用于光栅刻划机的工作台 至应用于光栅刻划机的工作台 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 应用于光栅刻划机的工作台属于超精密制造技术研究领域，目的在于解决现有技术中存在的稳定性弱、刻刻划度低的问题。本发明包括内层台、外层台和压电陶瓷，所述内层台嵌入在所述外层台的内部，所述内层台径向上通过弹簧片与外层台连接，轴向上通过封闭弹簧与外层台连接，所述内层台和所述外层台构成回字型结构，所述压电陶瓷对称设置在所述外层台前端两侧，通过压电陶瓷的伸缩驱动所述内层台相对所述外层台移动。本发明根据压电陶瓷伸缩长度的不同实现对光栅刻划机位移及摆角的校正；弹性钢片悬挂连接内层台和外层台，当内层台与外层台产生相对位移时相互之间无轴向摩擦力，内层台在微定位过程中可以避免爬行问题，较高精度的微位移和角度分辨力。 |
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