| 专利名称 | 一种化学机械研磨液配置优化的方法 | 申请号 | CN201310150633.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN103231311A | 公开(授权)日 | 2013.08.07 | 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 徐勤志;陈岚 | 主分类号 | B24B57/02(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B57/02(2006.01)I;B24B37/10(2012.01)I | 专利有效期 | 一种化学机械研磨液配置优化的方法 至一种化学机械研磨液配置优化的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种化学机械研磨液配置优化的方法,该方法包括:选定化学机械研磨的工艺条件,并获取晶圆特性数据和当前研磨液配置数据;通过高分子参考作用点模型,获取研磨颗粒吸附状态数据;判断所述研磨颗粒吸附状态数据是否满足物理吸附状态标准;如果否,调整所述当前研磨液配置数据,调整后返回获取研磨颗粒吸附状态数据的步骤;如果是,以所述当前研磨液配置数据作为研磨液配置优化数据,并利用研磨液配置优化数据配置得到优化的研磨液。利用本发明提供的方法进行化学机械研磨液配置优化,使得优化过程简化,在保证研磨后吸附在晶圆表面上的研磨颗粒易于清除的同时,还能使化学机械研磨液的工艺优化成本和周期都得以降低。 |
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