| 专利名称 | 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法 | 申请号 | CN201310140570.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103226241A | 公开（授权）日 | 2013.07.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王君;王丽萍;金春水 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法 至一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法，属于光学设计领域，解决了现有光学设计软件中对光学薄膜的处理方式无法对添加光学薄膜的光学系统的成像质量做出合理预估，导致按设计加工所得光学系统无法与光学薄膜兼容的问题。该方法从能量调制的角度，以严格的电磁场理论为出发点，建立了等效工作界面，结合裸光学系统参数构建了添加光学薄膜后的等效光学系统，并对系统进行了评价分析。本发明克服了现有光学设计软件对光学薄膜处理的不足，将光学薄膜中复杂的物理光学过程等效为几何光学过程，较现有的光学软件节约了时间和成本。 |
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