| 专利名称 | 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 | 申请号 | CN201310106402.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103217874A | 公开（授权）日 | 2013.07.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院力学研究所 | 发明（设计）人 | 蓝鼎;吴奎;魏同波;王育人 | 主分类号 | G03F7/207(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/207(2006.01)I | 专利有效期 | 基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 至基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统，用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统，利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集，形成的聚焦阵列对光刻胶感光，可以实现间距为100nm-2000nm的点阵排列。此系统实现微纳米点阵结构，工艺简单，不需要添加额外的设备，克服了纳米球光刻工艺中，需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。本发明在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉，便于工业化生产，在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。 |
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