| 专利名称 | 一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法 | 申请号 | CN201310100914.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103217686A | 公开（授权）日 | 2013.07.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明（设计）人 | 张月婷;仇晓兰;丁赤飚;胡玉新;雷斌;付琨 | 主分类号 | G01S13/90(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S13/90(2006.01)I | 专利有效期 | 一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法 至一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法，能有效的表达合成孔径因素对方位向聚焦位置的影响，使得仿真图像中由于合成孔径产生的SAR图像特征充分表现出来。第一步，确定初始等相位面和射线起点：在目标近雷达一侧，根据雷达波束入射的方向选定初始等相位平面，并在该平面上确定射线起点坐标；第二步，计算目标坐标系下射线起点的坐标，根据坐标变换矩阵T；第三步，射线循迹，根据第二步的射线起点坐标，根据射线理论计算射线在等相位面的出射点B的位置；第四步，计算该条射线的近似方位向聚焦位置。 |
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