| 专利名称 | 光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法 | 申请号 | CN201310096140.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103207530A | 公开（授权）日 | 2013.07.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张方;朱菁;黄惠杰;宋强;杨宝喜;陈明;曾爱军;黄立华;胡中华;肖艳芬 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法 至光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法，其构成包括模式产生单元、可旋转波片、偏振分光单元、环一产生单元和环二产生单元。本发明通过选择相应的模式产生单元的衍射光学元件和适当的调整，可以产生光瞳面光强与内外直径连续可变、单环形照明模式和双环形照明多种照明模式。 |
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