| 专利名称 | 一种提升光敏BCB薄膜可靠性的方法 | 申请号 | CN201210013248.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN103203925A | 公开(授权)日 | 2013.07.17 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 汤佳杰;罗乐;徐高卫 | 主分类号 | B32B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B32B27/00(2006.01)I;B32B3/14(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种提升光敏BCB薄膜可靠性的方法 至一种提升光敏BCB薄膜可靠性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种提升光敏BCB薄膜可靠性的方法,该方法首先提供一衬底,在所述衬底表面涂覆一层粘附剂;而后在所述粘附剂的表面涂覆光敏BCB,并光刻所述光敏BCB直至暴露出衬底,按前述相同手段并根据所需层数制备出至少一层的多个光敏BCB单元,形成作为介质层的BCB薄膜。本发明一方面减少升温降温过程中出现的热应力,降低了热应力对整片衬底的翘曲影响,同时由于光敏BCB单元间的热应力减少,从而单个光敏BCB单元产生的裂纹或其它可靠性问题不会蔓延到所有光敏BCB单元;另一方面,光刻形成的无BCB覆盖的槽,可作为划片道使用,以减少在划片时出现的BCB脱落的情况,即在不增加成本的前提下,有效地提升了可靠性。 |
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