| 专利名称 | 光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法 | 申请号 | CN201310140728.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103197512A | 公开（授权）日 | 2013.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 涂远莹;王向朝;步扬 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法 至光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法，所述检测方法使用的检测系统包括光源、照明系统、掩模台、包含检测标记的掩模、投影物镜、工件台、像传感器、用于掩模台与工件台的定位系统、数据处理系统及反馈控制系统。所述的检测方法采用偏振照明方式并选取大的投影物镜数值孔径进行检测，然后利用像传感器测量所述检测标记的成像位置偏移量与最佳焦面偏移量，再根据标定的偏振像差灵敏度系数计算所述投影物镜的偏振像差。本发明具有检测系统结构简单，偏振像差测量时间短，测量范围大的特点。 |
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