| 专利名称 | 检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置和方法 | 申请号 | CN201310113487.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103196389A | 公开（授权）日 | 2013.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 冯婕;邓超;姚政鹏;邢廷文 | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置和方法 至检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明是检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的装置，包括在实验平台上安装干涉仪、标准镜头、被检测计算全息基片和参考球面镜，标准镜头、被检测计算全息基片和参考球面镜依次位于来自干涉仪的准直光路中，并且它们的旋转中心轴与准直光束中心轴重合；参考球面镜，用于将经被检测计算全息基片转换后的波面反射回干涉仪中，转换后的波面为测试波，将转换后的波面与标准镜头提供的参考波面进行干涉，得到包含被检测计算全息基片的面形误差和材料不均匀性误差的干涉图。本发明还提供一种检测计算全息基片面形和材料不均匀性误差的方法。本发明有助于实现非球面的高精度检测，适用于对非球面面形进行高精度检测和计量。 |
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