| 专利名称 | 一种气体分配器及原子层沉积设备 | 申请号 | CN201210001944.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103194736A | 公开（授权）日 | 2013.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 专利有效期 | 一种气体分配器及原子层沉积设备 至一种气体分配器及原子层沉积设备 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种气体分配器及包括该气体分配器的原子层沉积设备。所述气体分配器，包括进气管道、过渡管道和配气盘，所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口，所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接，所述配气盘上有出气孔，所述配气盘的外表面设有倾斜设置的气体导流板。本发明能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，而且由于气体具有水平方向的分速度，使覆盖整个基片变得更为快速，很好地提高薄膜均匀性，有效地降低了成本。 |
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