| 专利名称 | 一种用于原子层沉积设备的气体分配器 | 申请号 | CN201210002317.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103194737A | 公开（授权）日 | 2013.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于原子层沉积设备的气体分配器 至一种用于原子层沉积设备的气体分配器 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种用于原子层沉积设备的气体分配器。所述用于原子层沉积设备的气体分配器，所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内，位于所述反应腔室内基片台的上方；所述气体分配器为环型或U型的气路管道，所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口；所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通，所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧，所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。本发明具备结构简单，易于加工，成本低廉的优点，在满足ALD沉积方式的同时，能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，可以很好地提高薄膜均匀性。 |
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