| 专利名称 | 一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法 | 申请号 | CN201210001927.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103194714A | 公开（授权）日 | 2013.07.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 王文东;黄春;闫坤坤;夏洋 | 主分类号 | C23C4/10(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C4/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法 至一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，将碳化硼粉和碳粉均匀混合，将混合后的粉末送入等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过所述等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。本发明使用碳掺杂B4C粉等离子喷涂方法制备涂层，当射流喷出后，石墨粉不仅能优先和氧气发生反应，避免B4C的氧化，而且碳的加入，抑制了B4C的高温分解，可降低甚至防止B4C在高温下的C流失，获得性能良好的B4C涂层，同时，碳掺杂不会在涂层中引入杂质元素，保证了涂层质量，且石墨粉的加入可增加粉的流动性，更有利于喷涂。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障