| 专利名称 | 一种混合线条的制造方法 | 申请号 | CN201110460558.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103187247A | 公开（授权）日 | 2013.07.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 唐波;闫江 | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种混合线条的制造方法 至一种混合线条的制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种混合线条的制造方法，该方法包括以下步骤：在底层上依次形成材料层和硬掩模层；在所述硬掩膜层上形成光刻胶层，所述光刻胶层对光学曝光和电子束曝光都敏感，并分别利用光学曝光和电子束曝光对所述光刻胶层进行曝光，显影后形成第一光刻胶图形和电子束曝光胶图形，其中第一光刻胶图形通过光学曝光形成，电子束曝光胶图形通过电子束曝光形成；以所述第一光刻胶图形和电子束曝光胶图形为掩模，对所述硬掩模层刻蚀形成对应的第一硬掩模图形和第二硬掩模图形；以所述第一硬掩模图形和第二硬掩模图形为掩模，刻蚀所述材料层，形成第一线条和第二线条。本发明将同一层次图形按线条大小进行拆分，大线条用普通光学曝光，小线条用电子束曝光，在不影响图形质量的前提下大幅缩减曝光时间；采用特殊的光刻胶，只需涂布一次光刻胶即可实现普通光学曝光和电子束曝光。 |
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