用于高温压电器件的掺杂型钽酸镓镧晶体及其制备方法

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专利名称 用于高温压电器件的掺杂型钽酸镓镧晶体及其制备方法 申请号 CN201110440347.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103173861A 公开(授权)日 2013.06.26 申请(专利权)人 上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 高攀;涂小牛;孔海宽;忻隽;郑燕青;施尔畏 主分类号 C30B29/30(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/30(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I 专利有效期 用于高温压电器件的掺杂型钽酸镓镧晶体及其制备方法 至用于高温压电器件的掺杂型钽酸镓镧晶体及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及用于高温压电器件的掺杂型钽酸镓镧晶体及其制备方法。所述掺杂型钽酸镓镧(M-LGT)晶体通式为y%M:La3Ta0.5+xGa5.5-xO14,其中:-0.3≤x≤0.3,0≤y≤2,掺杂元素M为Ba、Mo和Al中的至少一种。该晶体可以采用提拉法或坩埚下降法等晶体生长方法制备,并通过优化生长气氛、掺杂元素及后处理条件,可以显著提高晶体高温下的电阻率。采用该晶体制作的压电元件首次成功应用于-200℃~649℃的超高温压电加速度传感器,该掺杂型高电阻率LGT晶体材料在未来的超高温压电器件中具有良好的应用前景。

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