| 专利名称 | 一种用于光学加工的可调节抛光系统 | 申请号 | CN201220725246.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203003636U | 公开（授权）日 | 2013.06.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 丁蛟腾;马臻;许亮;凤良杰 | 主分类号 | B24B13/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/00(2006.01)I;B24B13/01(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于光学加工的可调节抛光系统 至一种用于光学加工的可调节抛光系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种用于光学加工的可调节抛光系统，包括三脚架、铁笔头组件以及三组抛光装置，抛光装置包括滚珠丝杠组件、滚动直线导轨组件、测量组件、抛光组件；支承座固定在支撑板的纵向两端，手轮与丝杠的一端固连，丝杠通过固定在支承座上的轴承支撑于支承座上，螺母座套接在丝杠上，导轨固定在支撑板上且位于滚珠丝杠组件的一侧，滑块设置在导轨上并沿导轨运动，滑块与螺母座连接；测量组件包括指示装置、设置在滚珠丝杠组件另一侧且沿支撑板纵向布置的刻度装置，位置指示装置与刻度装置对应。本实用新型解决了现有抛光方法的抛光效率低、应用具有局限性的技术问题，本实用新型的抛光效率高，抛光盘连续可调，运动平稳。 |
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