| 专利名称 | 一种包覆结构的二硼化钛-镍薄膜及其制备方法 | 申请号 | CN201110418976.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103160777A | 公开（授权）日 | 2013.06.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 黄峰;王博;葛芳芳;王怀勇 | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 专利有效期 | 一种包覆结构的二硼化钛-镍薄膜及其制备方法 至一种包覆结构的二硼化钛-镍薄膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种具有包覆结构的二硼化钛-镍薄膜，其特征在于该TiB2-Ni薄膜是以金属Ni为连续相，TiB2晶粒为弥散相原位复合而成，在该TiB2-Ni薄膜中，金属Ni以三维连续胞状结构均匀构成薄膜的基本构架，而TiB2晶粒则以颗粒状均匀的填补在胞状结构内部，形成金属Ni均匀包裹TiB2晶粒的包覆显微结构，其中TiB2含量为60-95at.％，Ni含量为5-40at.％。本发明的包覆结构的TiB2-Ni薄膜表现出了良好的韧性和很高的硬度，这极大扩大了此薄膜的应用范围；同时采用双靶共溅射磁控溅射技术操作方便，通过工艺条件的调控可以很好的控制TiB2-Ni薄膜材料的组成、结构和性能，并且该方法无需后处理工序，制备周期短，成本低，可复现性好，便于实现工业化生产。 |
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