| 专利名称 | 确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统 | 申请号 | CN201310072068.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103158057A | 公开（授权）日 | 2013.06.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 何敖东;宋志棠;刘波;刘卫丽;吴关平;王良咏;李俊焘;俞磊;闫未霞 | 主分类号 | B24B37/013(2012.01)I | IPC主分类号 | B24B37/013(2012.01)I | 专利有效期 | 确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统 至确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种确定相变材料的化学机械抛光停止点的方法及检测系统。根据本发明的方法，基于来自正在化学机械抛光的材料结构表面的反射光的强度来确定化学机械抛光停止点，如此可有效去除纳米孔或纳米沟槽外的相变材料，减少表层的损伤，提高器件的良率。 |
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