| 专利名称 | 无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法 | 申请号 | CN201310033860.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103149608A | 公开（授权）日 | 2013.06.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王彦钦;王长涛;张鸶懿 | 主分类号 | G02B3/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B3/02(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 专利有效期 | 无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法 至无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明是一种无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法，所述对准方法是通过光刻工艺在每个微透镜单元的口径顶点处做出一个直径为几微米的圆形平面区域。利用显微镜下处于阵列中心的横纵两排顶点圆心的连线，可以确定微透镜阵列的XY轴。将CCD图像传感器软件界面上位置保持不变的十字分划线作为对准的基准，调节对准所用的自制装置，分别使探测器和微透镜阵列的XY轴与作为基准的十字分划线对齐，实现了微透镜阵列与探测器的对准。该方法将深浮雕微透镜阵列中单元口径顶点作为实际对准标识，解决了标记对准法中由于刻蚀边缘陡直度差、标记漂移等原因导致对准精度低的问题。 |
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