| 专利名称 | 分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法 | 申请号 | CN201210496999.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103145624A | 公开（授权）日 | 2013.06.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 段宣明;金峰;董贤子;赵震声 | 主分类号 | C07D239/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D239/26(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法 至分子玻璃正性光刻胶及其图案化方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及通过曝光实现图案化所使用的分子玻璃正性光刻胶组合物以及用于形成光刻胶图案的方法。本发明公开的正性光刻胶组合物包括(A)官能团保护的六元含氮杂环衍生物，其含有酸敏感的官能团保护的酚基；(B)光致产酸剂(Photoacid?generator，PAG)；和(C)溶剂，其中，所述官能团保护的六元含氮杂环衍生物和光致产酸剂能够溶解在溶剂中。当所述分子玻璃正性光刻胶曝光时，光致产酸剂释放酸，这些酸与酸敏感的官能团反应形成酚基。这些含酚基的六元含氮杂环衍生物在显影液中加速溶解，从而形成特定的光刻胶图案。这种分子玻璃正性光刻胶组合物可以应用在微电子技术领域。 |
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