| 专利名称 | 绝对位置测量装置 | 申请号 | CN201210090799.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102607418A | 公开（授权）日 | 2012.07.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 乔栋;吴宏圣;曾琪峰;李也凡;孙强 | 主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 绝对位置测量装置 至绝对位置测量装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 绝对位置测量装置，属于光电测量技术领域，为了解决现有绝对式测量中存在的抗污染能力差，对光学系统要求高的技术问题，本发明装置包括：保护介质、绝对位置条纹、发光器、凸透镜、光电传感器和位置读出模块，所述绝对位置条纹设置在保护介质内部，所述绝对位置条纹所在的平面与凸透镜主光轴垂直，所述光电传感器所在平面与凸透镜主光轴垂直；所述发光器发出的光线透过保护介质入射到绝对位置条纹上，光线经过绝对位置条纹反射，反射光通过凸透镜在光电传感器上成像，位置读出模块与光电传感器连接。本发明绝对位置测量装置在数控机床加工行业具有广阔的应用空间。 |
1、源头对接，价格透明
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