| 专利名称 | 一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法 | 申请号 | CN201110441236.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102509704A | 公开（授权）日 | 2012.06.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 王显泰;钟英辉;金智;汪宁 | 主分类号 | H01L21/28(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/28(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法 至一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法，包括：对衬底上的叠层胶进行电子束曝光，进行栅脚版图形的写入；对叠层胶进行显影，利用各层胶的特性不同形成叠层胶的栅脚和栅帽图形；以及对带有叠层胶栅脚和栅帽图形的衬底进行金属镀膜和剥离，形成T型栅。本发明采用具有良好稳定度的4层结构的叠层胶，只需一次电子束写入栅脚图形，配合多次分层显影的方法，可以获得T型栅所需的空间图形，以制备T型栅，该方法有效的减小了电子束写入面积，相应减小了机时占用。 |
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