| 专利名称 | 原子层薄膜沉积系统 | 申请号 | CN201130473781.3 | 专利类型 | 外观设计 | 公开（公告）号 | CN301977404S | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 夏洋;李超波;陈波;万军;吕树玲;马舒 | 主分类号 | 15-99 | IPC主分类号 | 15-99 | 专利有效期 | 原子层薄膜沉积系统 至原子层薄膜沉积系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 1．本外观设计产品的名称：原子层薄膜沉积系统。2．本外观设计产品的用途：用于进行原子层薄膜沉积。3．本外观设计的设计要点：于外部形状。4．最能表明设计要点的图片或者照片：主视图。 |
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