| 专利名称 | 一种透明导电膜及其制备方法 | 申请号 | CN201010587396.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102568654A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 智林杰;罗彬;梁明会;王杰;邱腾飞 | 主分类号 | H01B5/14(2006.01)I | IPC主分类号 | H01B5/14(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 专利有效期 | 一种透明导电膜及其制备方法 至一种透明导电膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种透明导电膜，其特征在于，该透明导电膜包括透明基底层和附着在该基底层上的导电层，该导电层含有石墨烯和金属氧化物，所述导电层的方块电阻为0.1-5000Ω/sq，所述导电层在可见光区域的透光率为60-95％。本发明的基于石墨烯和金属氧化物的透明导电膜与单纯的石墨烯基透明导电膜相比，具有更好的透光性和导电性，与单纯的金属氧化物透明导电膜相比，具有更好的抗弯折性能，可以作为柔性透明电极。 |
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