| 专利名称 | 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 | 申请号 | CN201210268327.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102778819A | 公开（授权）日 | 2012.11.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 刘伟奇;孟祥翔;郭珍珍;柳华;康玉思;魏忠伦;冯睿 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 至一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法，属于光刻技术领域中涉及的曝光帧数据的产生方法。要解决的技术问题：提供一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法。技术方案包括图形处理、存储数据；给定时间值、提取行向量；处理行向量、得到曝光帧数据，这三步是在产生整个曝光帧数据的程序流程控制下进行的。本发明利用合理划分曝光位置并与曝光时间相统一，进行一次图形与划分的曝光位置对照，对所有曝光位置赋值“0”或“1”。用一个两页的三维数组存储时间值和对照的赋值，提取相同时间下各聚焦点所在曝光位置的对照赋值组成一帧，随着提取时间值的增大，去掉前段已被提取出时间值的曝光位置，有效提高了帧数据产生的速率。 |
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