| 专利名称 | 用于紫外光刻机的光刻照明系统 | 申请号 | CN201210499556.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102929106A | 公开（授权）日 | 2013.02.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 陈明;朱菁;杨宝喜;曾爱军;黄惠杰;胡中华;李璟 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I | 专利有效期 | 用于紫外光刻机的光刻照明系统 至用于紫外光刻机的光刻照明系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于紫外光刻机的光刻照明系统，包括：紫外激光器、一维连续变倍扩束镜组、衍射光学元件转盘机构、傅里叶变换透镜、匀光系统和控制器，所述的衍射光学元件转盘机构沿圆周均匀地设有多个衍射光学元件。所述的紫外激光器产生平行光束，沿光束传输方向依次是所述的一维连续变倍扩束镜组、转盘机构的衍射光学元件、傅里叶变换透镜和匀光系统。本发明具有系统结构简单、光学透过率高、不存在锥形镜组引入的光瞳劣化问题、能有效降低光刻机的生产成本等特点。 |
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