| 专利名称 | 一种通过气相光氯化反应制备氯甲基三甲基硅烷的方法和装置 | 申请号 | CN00119457.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1283625 | 公开（授权）日 | 2001.02.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海有机化学研究所;中国科学院有机合成工程研究中心 | 发明（设计）人 | 姜标;解德良;张芳江;周琳 | 主分类号 | C07F7/10 | IPC主分类号 | C07F7/10 | 专利有效期 | 一种通过气相光氯化反应制备氯甲基三甲基硅烷的方法和装置 至一种通过气相光氯化反应制备氯甲基三甲基硅烷的方法和装置 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 本发明是一种通过气相光氯化反应制备氯甲基 三甲基硅烷的方法和氯化反应装置,该方法是以四甲基硅烷与 异戊烷的重量比为1∶0—1.5的混合组份的气体与氯气通过气 相光氯化反应制备氯甲基三甲基硅烷的方法。本发明是一种简 易、成本低、适于工业化生产氯甲基三甲基硅烷的方法。 |
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