| 专利名称 | 可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法 | 申请号 | CN98103510.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1243029 | 公开（授权）日 | 2000.02.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院感光化学研究所 | 发明（设计）人 | 赵进才;陈锋 | 主分类号 | B01D63/06 | IPC主分类号 | B01D63/06 | 专利有效期 | 可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法 至可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 专利权的转移 | 说明书摘要 | 本发明涉及半导体光催化剂技术领域,特别涉及 可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有 机基底双层膜特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层, 再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧 化物涂层厚度在0.1～100微米,半导体光催化剂涂层厚度为 0.1～100微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面 惰性氧化物涂层,再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层即制 得本发明的有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污 垢,并对有机物基底没有任何破坏作用。 |
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