专利名称 | 一种电热式旋转涂覆制备薄膜装置 | 申请号 | CN201020157245.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开(公告)号 | CN201692921U | 公开(授权)日 | 2011.01.05 | 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 王燕鹊 | 主分类号 | B05C9/14(2006.01)I | IPC主分类号 | B05C9/14(2006.01)I;B05C11/08(2006.01)I | 专利有效期 | 一种电热式旋转涂覆制备薄膜装置 至一种电热式旋转涂覆制备薄膜装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种电热式旋转涂覆制备薄膜装置,该装置包括存储罐、喷嘴、腔室和旋转台;其中,旋转台固定于腔室内部,用以固定放置于其上的待涂覆的硅片;存储罐固定于腔室外部,其中存储的胶通过管道以及管道另一端延伸至腔室内部旋转台上方的喷嘴,被滴到硅片的中央。该装置还包括一设置于旋转台内部的加热装置,该加热装置在旋转台的台面下表面有两个接触点,与腔室底部延伸出的接触点接触导通加热装置进行加热。利用本实用新型,减小了干燥应力,避免了干凝胶的开裂。 |
1、源头对接,价格透明
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