一种制作弧形的凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的方法与应用

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专利名称 一种制作弧形的凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的方法与应用 申请号 CN201210277787.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102787364A 公开(授权)日 2012.11.21 申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所 发明(设计)人 秦建华;石杨 主分类号 C40B50/14(2006.01)I IPC主分类号 C40B50/14(2006.01)I;C12M3/00(2006.01)I 专利有效期 一种制作弧形的凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的方法与应用 至一种制作弧形的凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的方法与应用 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种制作弧形的凹陷小孔的PDMS聚合物芯片的方法与应用,该方法的步骤为利用软蚀刻技术制作PDMS通道芯片模板;制作PDMS薄膜,将上述的PDMS通道芯片模板,与PDMS薄膜封接后,与玻璃片封接,底部用金属管连接气体,对整个装置进行表面修饰;将未固化后的PDMS聚合物溶液倒入上述的装置,通入气体,加热固化PDMS聚合物溶液,剥离PDMS芯片即可;表面修饰后的PDMS芯片可以用于细胞的三维培养,该方法无需昂贵的刻蚀设备,具有操作简单、快速,实验成本低廉,不涉及有机试剂,环境友好,可与其它技术集成化的优点。

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