| 专利名称 | 一种在平面子孔径拼接测量中调整被测镜倾斜的装置和方法 | 申请号 | CN201210319845.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102788563A | 公开（授权）日 | 2012.11.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 徐富超;谢伟民;贾辛;邢廷文 | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 一种在平面子孔径拼接测量中调整被测镜倾斜的装置和方法 至一种在平面子孔径拼接测量中调整被测镜倾斜的装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种在平面子孔径拼接测量中调整被测镜倾斜的装置和方法，该装置包括菲索移相干涉仪，标准镜，半透半反镜，被测镜，激光自准直仪，二维平移台，倾斜调整装置，转台，平面反射镜，计算机，探测器和聚焦透镜，利用该装置在第一子孔径位置处进行调平，并建立被测镜和标准镜平行的基准点，然后再在其它子孔径位置处，以此基准点为基准计算被测镜的倾斜量，然后再对被测镜的位姿进行调整，从而减小子孔径面形中的倾斜量，提高平面子孔径拼接测量的精度。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障