| 专利名称 | 基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统 | 申请号 | CN200910218491.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102042873A | 公开（授权）日 | 2011.05.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 达争尚;刘力;田新锋;李东坚 | 主分类号 | G01J1/42(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J1/42(2006.01)I | 专利有效期 | 基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统 至基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法，该方法包括以下步骤：1)校准CCD器件：2)平行光场强度均匀性认定。本发明采用积分球将均匀强度标准传递至CCD，解决了均匀强度基准问题；本发明采用奇异点剔除、“标准块”方法进一步降低了CCD器件电子噪声的影响，保证了基准的精度；本发明采用旋转、平移方式实现了小靶面的CCD对大口径光场均匀性的认定，提高了分辨率；本发明采用以上方法认定的光场均匀性误差是确定的，即选定“标准块”时设定的误差是确定，能够精确测量平行光场的强度。 |
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