| 专利名称 | 可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用 | 申请号 | CN201110115132.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102768467A | 公开（授权）日 | 2012.11.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 吴飞鹏;袁浩;赵榆霞 | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/039(2006.01)I | 专利有效期 | 可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用 至可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一类可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用，该敏化剂包括以三苯胺为电子给体的直链或多支型的苄叉环烷烃酮类双光子染料或以三苯胺为电子给体的直链或多支型的苄叉烷烃酮类双光子染料；该敏化剂中的直链或支链型苄叉(环)烷烃分子结构中都有且仅有三苯胺一种含氮电子给体基团。本发明的特点是敏化剂中的三苯胺基团不会中和生酸剂产生的酸，不抑制酸催化的化学增幅过程，可用于制备化学增幅型正性光刻胶；而且敏化剂具有大的双光子吸收截面，合成简单，成本低廉，可制备用于双光子加工的化学增幅型正性光刻胶；以此敏化剂敏化商用光产酸剂产酸而制备出的光刻胶具有很高的加工分辨率，和很低的加工能量阈值。 |
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