| 专利名称 | 一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法 | 申请号 | CN201110202920.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102888631A | 公开（授权）日 | 2013.01.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院过程工程研究所 | 发明（设计）人 | 吕兴梅;刘恋;张锁江;张香平;郑勇;张亲亲 | 主分类号 | C25D3/56(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D3/56(2006.01)I | 专利有效期 | 一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法 至一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种采用离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法，其特征在于采用离子液体与无水三氯化铝的混合物，向其中加入铋盐合成低温电镀液。以处理过的基体为沉积阴极，采用直流电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金，合金中铋含量可根据需要进行调整。本发明采用的离子液体种类众多、价格低廉、电导率高、电化学窗口宽、不挥发、环境友好且能有效溶解铋盐。采用离子液体电沉积技术制备Al-Bi合金及其镀层可有效降低电沉积温度和槽电压，大大降低了能耗，同时减缓了对设备的腐蚀，得到的沉积层性能优异，镀层平整且厚度可调，易于控制。 |
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