| 专利名称 | 采用磁控溅射技术制备医用高分子材料的方法 | 申请号 | CN201110190842.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102392344A | 公开（授权）日 | 2012.03.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 张维;王怀雨;季君晖 | 主分类号 | D06M10/06(2006.01)I | IPC主分类号 | D06M10/06(2006.01)I;C08J7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 采用磁控溅射技术制备医用高分子材料的方法 至采用磁控溅射技术制备医用高分子材料的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了采用磁控溅射技术制备医用高分子材料的方法；该方法通过将医用高分子材料固定或移动经过磁控溅射设备的真空室内的处理台，抽真空，通入气体，开启处理台、靶台的电源，处理，得到具有高的表面抗感染性和生物相容性的医用高分子材料；该方法操作简单，不影响材料本体的物理化学结构，处理后得到的高分子材料表面结构稳定，具有长效、广谱的抗感染性能，而且细胞相容性不低于材料本身固有的生物相容性。 |
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