| 专利名称 | 一种双波段红外成像光学系统 | 申请号 | CN201120201781.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202177748U | 公开（授权）日 | 2012.03.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 蹇毅;潘兆鑫;于洋 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G01J5/08(2006.01)I;G01J5/54(2006.01)I | 专利有效期 | 一种双波段红外成像光学系统 至一种双波段红外成像光学系统 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种双波段红外成像光学系统，它主要用于红外焦平面成像系统。本专利提出一种四片式的光学系统，来自无穷远物方的光束依次通过第一透镜，第二透镜，第三透镜，第四透镜，杜瓦窗口，孔径光阑，在像面上成像。系统的孔径光阑与制冷红外探测器杜瓦冷光阑重合。该系统实现了中波红外(MWIR，3-5μm)和长波红外(LWIR，8-12μm)波段在同一个焦平面成像。本系统相对孔径为1∶3，焦距300毫米，视场为8°。本专利结构的主要特点在于：双波段工作，使用常见的红外材料，冷光阑效率100％，且结构简单，易于装配。 |
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