| 专利名称 | 激光修调薄膜电阻中快速精确调整焦面的方法 | 申请号 | CN200910217808.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101733561A | 公开（授权）日 | 2010.06.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王忠生;汤建华;吴玉斌;田兴志;王洋 | 主分类号 | B23K26/42(2006.01)I | IPC主分类号 | B23K26/42(2006.01)I | 专利有效期 | 激光修调薄膜电阻中快速精确调整焦面的方法 至激光修调薄膜电阻中快速精确调整焦面的方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明涉及在对材料进行激光精密加工中的调焦方法，特别是一种激光修调薄膜电阻中快速精确调整焦面的方法。是通过增加一精密位移台，辅以水平仪和高度尺，进行定量调整，通过观察光刻效果，实现焦面的快速精确调整，先通过调整螺栓使光学平台上的扫描场镜距工作台的高度和焦面位置近似一致，再通过精密位移台进行两次精调，焦面的位置和角度精度即可实现。采用本方法为在薄膜调阻机上加工薄膜电阻提供了快速简便有效的高精度焦面调整手段，明显提高其产品质量。 |
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