| 专利名称 | 一种磁控溅射靶 | 申请号 | CN200810228885.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101736300A | 公开（授权）日 | 2010.06.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明（设计）人 | 冯彬;鲁向群;佟辉;刘大为;周颖;刘丽华 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁控溅射靶 至一种磁控溅射靶 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无氧铜，中心放内磁钢，周边钻若干小孔放外磁钢，靶材直接放在磁钢座上，通过靶材压盖固定。极靴材料为导磁材料，磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴上。极靴下面氩弧焊焊接进出水嘴，冷却水低进高出，靠密封橡胶圈实现密封。绝缘座材料为可以在真空下使用的耐热绝缘材料，安装在固定座(阳极)和极靴(阴极)之间。绝缘帽起到带电螺钉(阴极)和固定座(阳极)之间的绝缘作用。本发明结构简单，成本低。 |
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